#26-04Charakterisierung neuer Varianten bekannter Negativ-Fotoresiste zur Erzeugung nanoskaliger Strukturen per Elektronenstrahllithografie
Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology
Student research project Master-Thesis Diploma Thesis
Das ZfM der TU-Chemnitz in Kooperation mit dem Fraunhofer ENAS bietet eine volle mikro- und nanotechnologische Fertigungslinie für Waferprozesse bis zu einer Wafergröße von 8“. Hierzu steht in der Abteilung Lithografie ein 1:1 Mask-Aligner, eine i-line Projektionslithografie sowie eine Elektronenstrahlbelichtungsanlage zur Verfügung. Ziel dieser Arbeit ist es, neu und weiterentwickelte Varianten eines etablierten Fotoresists in der Elektronenstrahllithografie zu charakterisieren. Hierbei handelt es sich um chemisch verstärkte Fotolacke, die eine sehr geringe Belichtungsdosis benötigen, jedoch in ihrer Auflösung limitiert sind. Es stehen mehrere neue Resiste zur Verfügung, die in ihrer Zusammensetzung abgeändert wurden, um die Performance zu verbessern. In der Arbeit soll der gesamte Prozessablauf betreut werden und anhand aufgestellter Prozessfenster die beste Variante je nach Applikation identifiziert werden. Dies umfasst folgende Punkte:1. Literaturrecherche und Einarbeitung in bestehende Prozesse
2. Entwicklung einer technologischen Prozessfolge zur Evaluation mehrerer abgeänderter Varianten eines bekannten Fotolackes
3. Aufstellung einer Spinkurve zur genauen Dickeneinstellung der neuen Varianten
4. Eigenständige Durchführung von Teilen der Prozesskette im Reinraum (Belackung, Pre-Bake, Post-Exposure Bake, Entwicklung)
5. Charakterisierung der erzeugten Strukturen mittels SEM, CD-SEM, Profilometrie, u. A.
6. Iterative Optimierung der genutzten Prozessparameter hinsichtlich minimaler erreichbarer Strukturbreite, Strukturtreue und weiterer Eigenschaften
7. Bewertung verschiedener Verfahren zur Lackentfernung
Weiterhin sind regelmäßige Fortschrittsberichte angedacht, auch mit Vertretern des Lackherstellers. Auch sollen die Ergebnisse im Rahmen eines hausinternen Studierendenseminars vorgestellt werden.
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M.Sc. Markus Gottwald
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