#26-05Prozessentwicklung für uniforme Belackung von vorstrukturierten Wafern für die Elektronenstrahllithografie
Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology
Student research project Master-Thesis Diploma Thesis
Das ZfM der TU-Chemnitz in Kooperation mit dem Fraunhofer ENAS bietet eine volle mikro- und nanotechnologische Fertigungslinie für Waferprozesse bis zu einer Wafergröße von 8“. Hierzu steht in der Abteilung Lithografie unter anderem eine Elektronenstrahlbelichtungsanlage zur Verfügung. Die Elektronenstrahllithografie ist ein hochpräzises Belichtungsverfahren, das hohe Anforderungen an die Substrate (Flatness, Waferbow, …) mit sich bringt. Jedoch sind bei einigen Anwendungen für MEMS/NEMS oder optischen Bauelemente auch Belichtungen auf vorstrukturierten Substraten nötig. Hier können die nötigen dünnen Fotoresist-Schichten meist nicht uniform mit dem üblichen Spin-On Verfahren aufgebracht werden. Ziel dieser Arbeit ist es, eine Prozessentwicklung für die uniforme und homogene Belackung zur Nutzung in der Elektronenstrahllithografie durchzuführen. Es soll iterativ ein Belackungsprozess aufgestellt und der gesamte folgende lithografische Prozessablauf betreut werden. Dies umfasst konkret folgende Punkte:1. Literaturrecherche zu uniformen Belackungsprozessen und möglichen Problemen
2. Aufstellung einer technologischen Prozessfolge zur Evaluation möglicher Belackungsvarianten
3. Teilweise eigenständige Durchführung der Prozesskette (Belackung, Pre-Bake, Post-Exposure Bake, Entwicklung)
4. Charakterisierung der erzeugten Lackschichten mittels AFM, SEM, Profilometrie, Ellipsometrie, u. A.
5. Evaluation in die Lackschicht belichteter Strukturen mittels SEM, AFM, CD-SEM, u. A.
6. Bewertung der Nutzbarkeit und Optimierung der entwickelten Verfahren
Weiterhin sind regelmäßige Fortschrittsberichte angedacht. Die Ergebnisse der Arbeit sollen im Rahmen eines hausinternen Studierendenseminars vorgestellt werden.
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M.Sc. Nikola Kohlschreiber
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