#26-06Charakterisierung innovativer Fotolacke für die Elektronenstrahllithografie basierend auf neuartigen Polymeren

Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology

Student research project   Master-Thesis   Diploma Thesis  

Das ZfM der TU-Chemnitz in Kooperation mit dem Fraunhofer ENAS bietet eine volle mikro- und nanotechnologische Fertigungslinie für Waferprozesse bis zu einer Wafergröße von 8“. Hierzu steht in der Abteilung Lithografie unter anderem eine Elektronenstrahlbelichtungsanlage zur Verfügung. Für die Elektronenstrahllithografie sind spezielle, polymerbasierte Fotolacke nötig, die bei Bestrahlung mit Elektronen mit diesen interagieren und so eine Strukturierung ermöglichen. Im Zuge eines Fraunhofer-Projektes werden in enger Zusammenarbeit mit Polymerchemikern neuartige Polymere entwickelt, die in der Elektronenstrahllithografie eingesetzt werden können. Ziel dieser Arbeit ist es, diese neuen Polymere bzw. Lacke daraus hinsichtlich verschiedener Parameter (Auflösung, Belichtungsdosis, Dunkelabtrag, Entwicklerchemie, …) evaluiert werden. Dazu soll in der Arbeit die gesamte lithografische Prozesskette betreut werden und verschiedene neue Lacke charakterisiert und iterativ in Zusammenarbeit mit dem Partnerinstitut optimiert werden. Dies umfasst folgende Teilarbeiten:

1.    Nutzung und Erweiterung einer technologischen Prozessfolge zur Evaluation vieler neuer Resistvarianten
2.    Teilweise eigenständige Arbeit im Reinraum für Belackung, Pre-Bake, Post-Exposure Bake und Entwicklung von Wafern mit den neuen Resisten
3.    Charakterisierung der erzeugten Strukturen mittels Lichtmikroskop, SEM, Profilometrie, u. A.
4.    Auswertung mehrerer Belichtungsserien mit Variationen der Elektronendosis und anderer Prozessparameter und Optimierung dieser
5.    Aufstellen und Zusammenfassung von Prozessfenstern zur Nutzung der neuen Fotolacke

Weiterhin sind regelmäßige Fortschrittsberichte angedacht, auch mit den anderen Projektpartnern. Auch sollen die Ergebnisse im Rahmen eines hausinternen Studierendenseminars vorgestellt werden.

Contact

M.Sc. Markus Gottwald
markus.gottwald@…