SAB: Anlagen- und Prozessentwicklung für die Atomlagenabscheidung Aluminium-basierter Dünnfilme für Barriere, Aktorik und Elektronik – MultiALD

Das Projekt MultiALD nimmt auf Basis Aluminium-haltiger Dünnschichtsysteme Wasserdampfbarriere- und sowie kristalline Aktuator-Materialien in den Fokus. Die Arbeiten umfassen die quantenchemisch unterstützte Prozessentwicklung zur Schichtabscheidung, sowie die Charakterisierung. Die Funktionalität wird an Demonstratoren gezeigt. Grundlage für die Arbeiten bildet die scia Atol 200-Anlage mit ihrem HF-Elektrodensystem, welche durch Überarbeitung und Weiterentwicklung höhere Prozesstemperaturen und eine bessere Steuerbarkeit in Plasmaprozessen ermöglichen werden.