AiF: SprühTopo: Sprühbeschichtung als alternative Beschichtungstechnologie für Substrate mit unterschiedlichen Größen und Topographien

Das Ziel des Projekts ist die Entwicklung eines Negativspruehlackes und der dazugehoerigen Prozesstechnologie fuer eine materialsparende Spruehbeschichtung zur Herstellung, Strukturierung und Charakterisierung von klebfreien, homogenen Schichten auf Substraten unterschiedlicher Groessen und Topographien. Es ist weiterhin der Prozess der homogenen Beschichtung auf Substraten mit Topographien bis zu 300?m von nasschemischen geaetzten Strukturen mit typischen Boeschungswinkeln von 54? und von trockenchemisch tiefengeaetzten Strukturen mit bis zu 90? Kantenwinkeln zu entwickeln. Dabei sollen die Schichten eine gleichmaessige Schichtdicke und vor allem eine ausreichende Kantenbedeckung im Schichtdickenbereich zwischen 3 ?m bis 30 ?m aufweisen. Die Prozessentwicklung der Strukturierung des Negativlackes auf Topographien und die Prozessentwicklung der Strukturuebertragung, sowie die Charakterisierung der erzeugten Strukturen ist ebenso Bestandteil des Projektes.